[发明专利]一种适用于步进扫描投影光刻机的轨迹规划系统及方法在审
| 申请号： | 202011459129.0 | 申请日： | 2020-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN112558427A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 李兰兰;李建超;张雄星;李越 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人： | 黄秦芳 |
| 地址： | 710032 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明为一种适用于步进扫描投影光刻机的轨迹规划系统及方法，其克服了现有技术中存在的光刻机掩模台及硅片台在恒速扫描运动之间无最优轨迹的问题，实现最小化扫描运动之间的时间，提高系统的效率。本发明包括用于向轨迹规划模块提供初始控制数据的上位机控制系统，初始控制数据包括一个扫描的起始点、所需的距离和扫描的速度以及终止点；轨迹规划模块产生轨迹数据，轨迹数据包括位置状态信号、速度状态信号和加速状态信号，所述状态信号定义硅片台或掩模台在某一方向上的运动。本发明规划方法包括以下步骤：(1)接收关于扫描起点和终点、距离和速度的初始控制数据；(2)根据所述的初始控制数据设计所述部件的每个轴移动轨迹。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 步进 扫描 投影 光刻 轨迹 规划系统 方法 | ||
【主权项】：
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