[发明专利]基于负电容效应的碳基场效应晶体管传感器有效

专利信息
申请号: 202011447171.0 申请日: 2020-12-08
公开(公告)号: CN112697843B 公开(公告)日: 2023-10-03
发明(设计)人: 刘逸为;曹觉先;张志勇;赵为 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: G01N27/00 分类号: G01N27/00;B82Y15/00
代理公司: 南京行高知识产权代理有限公司 32404 代理人: 王培松;王菊花
地址: 411105 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供一种基于负电容效应的碳基场效应晶体管传感器,包括:位于底层的栅极;位于栅极的一侧的底栅介质层;位于底栅介质层背离栅极一侧表面的碳纳米管沟道层;位于碳纳米管沟道层背离底栅介质层一侧表面的顶栅介质层;位于顶栅介质层背离碳纳米管沟道层一侧表面的铁电材料层、源极与漏极,铁电材料层设置在源极与漏极之间、并与源极与漏极分别电连接;以及位于铁电材料层背离顶栅介质层一侧表面的敏感层,敏感层作为传感器探针,被设置成包括用于探测待测对象的敏感材料;其中,铁电材料层被设置成通过底层的栅极施加外部电场至铁电材料的矫顽电压区间,使得铁电材料工作在负电容效应区间,提高低浓度检测的灵敏度。
搜索关键词: 基于 电容 效应 场效应 晶体管 传感器
【主权项】:
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