[发明专利]具有含脂肪族多环结构的有机基团的含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物在审
| 申请号： | 202011433145.2 | 申请日： | 2015-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN112558410A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 柴山亘;志垣修平;中岛诚;武田谕;若山浩之;坂本力丸 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/075;G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 孙丽梅;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明的课题是提供，在将上层抗蚀剂曝光并利用碱性显影液、有机溶剂进行显影时可以形成优异的抗蚀剂图案形状的抗蚀剂下层膜及其形成用组合物。本发明的解决方法是一种含有脂肪族多环结构的光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含作为硅烷的水解性硅烷、其水解物、其水解缩合物、或它们的组合，脂肪族多环结构是式(1)(式(1)中，R |
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| 搜索关键词： | 具有 脂肪 族多环 结构 有机 基团 含硅抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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