[发明专利]光学位置测量装置在审

专利信息
申请号: 202011425935.6 申请日: 2020-12-09
公开(公告)号: CN113028998A 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: K·森迪希 申请(专利权)人: 约翰内斯·海德汉博士有限公司
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 刘晗曦;刘春元
地址: 德国特劳*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种光学位置测量装置,所述光学位置测量装置具有反射量具和相对于所述反射量具在至少一个测量方向上可移动的扫描单元。所述反射量具具有增量测量刻度以及在至少一个参考位置处具有参考标记。所述扫描单元除了包括用于产生增量信号的扫描装置之外还为了产生参考信号而包括至少一个光源、成像光学器件、布置在光阑平面中的光阑结构以及多个探测器元件;通过所述成像光学器件将所述参考标记成像到所述光阑结构上。所述参考标记以集成到所述增量测量刻度中的方式布置在所述反射量具上。此外,所述成像光学器件沿着横向方向具有变化的对象侧的焦距,其中所述横向方向垂直于测量方向定向。
搜索关键词: 光学 位置 测量 装置
【主权项】:
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