[发明专利]一种高损伤阈值的多层介质膜矩形衍射光栅制备方法有效
| 申请号： | 202011420469.2 | 申请日： | 2020-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN112596137B | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 程鑫彬;谢凌云;张占一;王占山 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 翁惠瑜 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种高损伤阈值的多层介质膜矩形衍射光栅制备方法，包括以下步骤：镀制多层介质膜；在Si片上刻蚀制备出与目标矩形光栅结构相反的矩形Si光栅母版；利用软材料模板转移矩形Si光栅母版的图案；使用紫外纳米软压印技术，通过软材料模板在多层介质膜上形成与目标矩形光栅结构相反的光刻胶光栅；使用原子层沉积工艺在所述光刻胶光栅上沉积构成光栅的薄膜；去除多余薄膜和光刻胶，形成需要的矩形光栅结构。与现有技术相比，本发明克服了传统光栅刻蚀工艺造成的梯形光栅结构，解决了梯形光栅结构偏差引起的光栅内电场增强效应加剧，避免了因刻蚀过程中离子束轰击在介质光栅侧壁产生吸收缺陷，提高介质多层膜衍射光栅的激光损伤阈值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 损伤 阈值 多层 介质 矩形 衍射 光栅 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同济大学，未经同济大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011420469.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
