[发明专利]成膜方法和成膜装置在审
| 申请号： | 202011385908.0 | 申请日： | 2020-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN112981331A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 内田敏治;松本行生 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/58;C23C14/54 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 韩卉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种在形成有凸部和凹部的基板表面上形成薄膜时能够一边保持凹凸表面形状一边以规定的膜厚包覆表面的成膜方法和成膜装置。一种成膜方法，在沿着与第1方向交叉的第2方向交替地形成有沿所述第1方向延伸的凸部和沿所述第1方向延伸的凹部的基板(10)上进行成膜，其特征在于，所述成膜方法包括：成膜工序，向基板(10)照射成膜材料，形成薄膜；以及蚀刻工序，向形成有所述薄膜的基板(10)照射蚀刻用射束，进行蚀刻，照射所述成膜材料的方向和照射所述蚀刻用射束的方向相对于基板(10)的成膜面的法线倾斜，且两者的照射角度设定为相同。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 装置 | ||
【主权项】：
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