[发明专利]一种高纯氨深度净化装置及其实施方法有效

专利信息
申请号: 202011371768.1 申请日: 2020-11-30
公开(公告)号: CN112479226B 公开(公告)日: 2023-06-20
发明(设计)人: 赵毅;王天源;赵趫;刘颖;计燕秋;冯凯 申请(专利权)人: 大连科利德半导体材料股份有限公司
主分类号: C01C1/02 分类号: C01C1/02;B01D53/76;B01D53/48;B08B9/38
代理公司: 大连优路智权专利代理事务所(普通合伙) 21249 代理人: 姚萍
地址: 116000 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明公开了一种高纯氨深度净化装置及其实施方法,包括第一电机、搅拌架、刮刀、出料孔、收料箱、第一进气管、第二限位块、第一通孔、第二电机、第一限位球、第二进气管、第三限位块、第四通孔、第三电机和第二限位球;该发明安全、可靠,通过第一电机、搅拌架、刮刀、出料孔和收料箱的配合使用,实现了自动对反应罐内部清理的目的;通过第一进气管、第二限位块、第一通孔、第二电机、第一限位球、第二进气管、第三限位块、第四通孔、第三电机和第二限位球的配合使用,便于打开和闭合进气管,且便于调节进气管内通入气体的流速,便于使用;通过深度净化装置的使用,便于气体的净化处理,提高了净化效果,便于使用。
搜索关键词: 一种 高纯 深度 净化 装置 及其 实施 方法
【主权项】:
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