[发明专利]制程中衍生低聚物循环再生处理方法在审
| 申请号： | 202011371184.4 | 申请日： | 2020-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN114570223A | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 林文勇;洪伟腾;黄怡萍;李文智;郭益铭;亷志强 | 申请（专利权）人： | 台湾聚合化学品股份有限公司 |
| 主分类号： | B01F21/20 | 分类号： | B01F21/20;B01D15/00;C08F6/00;C08F210/02;C08F218/08 |
| 代理公司： | 北京慧泉知识产权代理有限公司 11232 | 代理人： | 王顺荣;唐爱华 |
| 地址： | 中国台湾高*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种制程中衍生低聚物循环再生处理方法，先以溶剂(尤以含苯环的有机溶剂，优选为二甲苯)对低聚物蜡块进行溶解处理，接着以吸附剂(优选为活性白土)对低聚物蜡块进行吸附脱色处理，该低聚物蜡块与该吸附剂及与该溶剂间以最适化配比进行处理，该低聚物蜡块经过溶解及吸附脱色处理后，已经大幅降低醋酸乙烯酯(VA)及铁(Fe)含量，变成为不具刺鼻异味及颜色近白(不再为黄褐色)的再生低聚物蜡块，只须经过适当加工，就可以转变为再生产品。 | ||
| 搜索关键词： | 制程中 衍生 低聚物 循环 再生 处理 方法 | ||
【主权项】：
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