[发明专利]制程中衍生低聚物循环再生处理方法

权利要求书

1.一种制程中衍生低聚物循环再生处理方法，其特征在于：以制程中所衍生的低聚物蜡块为处理标的物，经过如下处理步骤：(1).以溶剂对低聚物蜡块进行溶解处理，且低聚物蜡块：溶剂的配比在1：1～30之间；(2).以吸附剂对对该低聚物蜡块进行吸附脱色处理，且低聚物蜡块：吸附剂的配比在1：0.1以上；(3).将低聚物蜡块、溶剂及吸附剂的混合溶液进行过滤，将该溶液中的吸附剂及杂质过滤去除；(4).将该吸附剂再生；(5)将该溶液中的溶剂以热蒸发方式回收收集。

2.根据权利要求1所述的制程中衍生低聚物循环再生处理方法，其特征在于：该溶剂为含苯环的有机溶剂。

3.根据权利要求2所述的制程中衍生低聚物循环再生处理方法，其特征在于：该含苯环的有机溶剂为二甲苯。

4.根据权利要求1所述的制程中衍生低聚物循环再生处理方法，其特征在于：该低聚物蜡块：溶剂的配比为1：10。

5.根据权利要求1所述的制程中衍生低聚物循环再生处理方法，其特征在于：该吸附剂为活性白土。

6.根据权利要求1所述的制程中衍生低聚物循环再生处理方法，其特征在于：该低聚物蜡块：吸附剂的配比为1:0.5。

7.根据权利要求1或4或6所述的制程中衍生低聚物循环再生处理方法，其特征在于：该低聚物蜡块：吸附剂：溶剂的配比为1：0.5：10。

8.根据权利要求1所述的制程中衍生低聚物循环再生处理方法，其特征在于：该低聚物蜡块经过溶解及吸附脱色处理后，变成为再生低聚物蜡块。