[发明专利]一种有机溶剂渗透解键合超薄晶圆解离玻璃载板的工艺在审
申请号: | 202011336904.3 | 申请日: | 2020-11-25 |
公开(公告)号: | CN112289734A | 公开(公告)日: | 2021-01-29 |
发明(设计)人: | 严立巍;符德荣;文锺 | 申请(专利权)人: | 绍兴同芯成集成电路有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人: | 张明利 |
地址: | 312000 浙江省绍兴市越城区*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种有机溶剂渗透解键合超薄晶圆解离玻璃载板的工艺,包括如下步骤:改质、键合、减薄、解键合、浸泡溶解、清洗。本发明采用有孔洞的玻璃载板配合复合式胶膜,可提供强度高的基础配合超薄晶圆背面研磨减薄的工艺,成本低量产性佳;解离释放层后,玻璃载板可解脱黏性,已无附着力,解离键合的效果好,避免因移除时外加应力,对超薄晶圆造成破片的风险。解决了现有技术中超薄晶圆解键合时玻璃载板与黏着剂之间的释放层可解构,但黏着剂本身从晶圆表面剥离所产生的应力变化对超薄晶圆的制作风险仍高,采用纯浸泡的方式,达成完全溶解剥离所须时间较长,产生效率及可行性不佳的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 有机溶剂 渗透 解键合 超薄 解离 玻璃 工艺 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造