[发明专利]改善晶圆光刻胶涂布效果的方法在审
| 申请号： | 202011319116.3 | 申请日： | 2020-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN112415854A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 谷云鹏;吴长明;姚振海;陈骆;孙龙;郭星 | 申请（专利权）人： | 华虹半导体（无锡）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 栾美洁 |
| 地址： | 214028 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种改善晶圆光刻胶涂布效果的方法，包括：旋转晶圆，对晶圆表面进行润湿；点光刻胶；光刻胶回流；控制晶圆进行第一次旋转；控制晶圆进行第二次旋转；控制晶圆进行主转速旋转形成光刻胶层，主转速旋转的主转速小于第一次旋转的转速且小于第二次旋转的转速，主转速旋转的旋转时间大于第一次旋转的旋转时间且大于第二次旋转的旋转时间。本发明将光刻胶成膜的步骤由主转速旋转一个步骤改进为第一次高速旋转、第二次高速旋转和主转速旋转三个步骤，这样可以先借助前两次高速旋转的惯性将光刻胶快速甩开并推向晶圆边缘，然后再降低晶圆转速至主转速，利用主转速控制光刻胶的厚度形成均匀的光刻胶层，从而大幅度增大光刻胶厚度的可调范围。 | ||
| 搜索关键词： | 改善 圆光 刻胶涂布 效果 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华虹半导体（无锡）有限公司，未经华虹半导体（无锡）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011319116.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种急诊患者入院信息核对方法和系统
- 下一篇：一种数据同步方法及系统
