[发明专利]一种补片铺贴定位结构及补片铺贴定位方法有效

专利信息
申请号: 202011289187.3 申请日: 2020-11-17
公开(公告)号: CN114506100B 公开(公告)日: 2023-08-04
发明(设计)人: 张凡;王专利;吴佳龙;王亮;任子文;晏冬秀;蔡禹舜 申请(专利权)人: 上海飞机制造有限公司
主分类号: B29C73/10 分类号: B29C73/10;B29C73/12;B29C73/24
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 201324 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种补片铺贴定位结构及补片铺贴定位方法,该补片铺贴定位结构包括透光本体、水平刻度线、预设刻度线、误差刻度线和定位部。水平刻度线设在透光本体上。预设刻度线设在透光本体上,预设刻度线为多个,多个预设刻度线与水平刻度线相交于定位点,预设刻度线与水平刻度线之间的夹角为预设夹角,多个预设夹角各不相同。水平刻度线和多个预设刻度线的两侧均设有一个误差刻度线,误差刻度线穿过定位点。定位部用于定位补片,补片的外周面在透光本体上的投影位于一个定位部上时,补片的形心与定位点重合。其中,当补片的形心与定位点重合时,补片的一部分位于透光本体的外侧。该补片铺贴定位结构能够提高补片的铺贴效率和铺贴质量。
搜索关键词: 一种 补片铺贴 定位 结构 方法
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