[发明专利]贵金属纳米腔/二维材料复合结构及利用二氯甲烷包覆提高其强耦合劈裂能量的方法在审

专利信息
申请号: 202011284858.7 申请日: 2020-11-17
公开(公告)号: CN112504974A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 韩晓博;王凯;胡智伟 申请(专利权)人: 武汉工程大学
主分类号: G01N21/25 分类号: G01N21/25;G01N21/47
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 唐万荣;闭钊
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种贵金属纳米腔/二维材料复合结构及利用二氯甲烷包覆提高其强耦合劈裂能量的方法。首先通过电子束蒸发的方法依次在硅基底上蒸镀一定厚度的钛膜、银膜,随后通过原子层沉积的方法在银膜表面沉积氧化铝薄膜,接着将单层二硫化钨转移到氧化铝薄膜之上,最后将稀释过的银纳米立方体悬浮液滴涂在样品表面,清洗干燥后形成贵金属纳米腔与二维材料的复合结构。通过显微镜收集单个复合结构的暗场散射光谱,之后取少量二氯甲烷溶剂滴在该复合结构上并盖上盖玻片,收集该状态下单个复合结构的散射光谱,最后通过Origin拟合实验数据观察,结果发现:相较于空气中的强耦合劈裂能量144meV,处于二氯甲烷溶剂中的强耦合劈裂能量提高到275meV。
搜索关键词: 贵金属 纳米 二维 材料 复合 结构 利用 二氯甲烷 提高 耦合 劈裂 能量 方法
【主权项】:
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