[发明专利]一种飞秒等离子体光栅直写制造大面积体光栅的方法有效
| 申请号： | 202011283167.5 | 申请日： | 2020-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN112327397B | 公开（公告）日： | 2022-11-04 |
| 发明（设计）人： | 曾和平;南君义;胡梦云 | 申请（专利权）人： | 华东师范大学重庆研究院;上海朗研光电科技有限公司;华东师范大学;重庆华谱科学仪器有限公司;重庆华谱智能装备有限公司;云南华谱量子材料有限公司;广东朗研科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 重庆启恒腾元专利代理事务所(普通合伙) 50232 | 代理人： | 江涛 |
| 地址： | 401123 重庆市渝北*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种飞秒等离子体光栅直写制造大面积体光栅的方法，其特点在于该方法利用超快激光脉冲先在玻璃内形成等离子体光栅，然后再移动玻璃样品直接刻蚀出局域的预制体光栅，接着改变等离子体光栅刻蚀的位置，并且等离子体光栅中的部分光丝与预制体光栅重合，利用局域体光栅的波导耦合特性，可以无缝、整齐地随着等离子体光栅的刻蚀而直写出大面积体光栅。此方法不仅简化了体光栅制造流程，降低体光栅制备成本，还可以设计不同面积、不同光栅常数的加工方案，制备出光学质量高、米级别的光栅。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 光栅 制造 大面积 方法 | ||
【主权项】：
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