[发明专利]一种高厚度高强度光固化氮化硅陶瓷及其制备方法在审
| 申请号： | 202011272964.3 | 申请日： | 2020-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN114478049A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 潘欢;卢秉恒;鲍崇高;刘荣臻 | 申请（专利权）人： | 西安增材制造国家研究院有限公司 |
| 主分类号： | C04B38/06 | 分类号： | C04B38/06;C04B35/584;C04B35/622;B33Y70/10;B33Y80/00 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 安彦彦 |
| 地址： | 710000 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高厚度高强度光固化氮化硅陶瓷及其制备方法，制备过程中采用向陶瓷膏料中低温造孔剂PEG，使得在后期的脱脂过程，氮化硅陶瓷的最大脱脂厚度提高至8mm，且脱脂时间仅需60h，脱脂率可达99％以上。本发明通过将PEG在200‑300℃挥发并且留下球形孔洞的特点，首先在氩气气氛下进行高分子的裂解及低温造孔剂的脱除，其中后者可在300℃几乎全部脱除，为后续小分子的逸出提供通道。该过程在陶瓷生坯脱脂过程中预先在坯体中留下通道，利于后续光敏树脂的高温脱出(避免开裂变形，提高极限脱脂厚度)。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 厚度 强度 光固化 氮化 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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