[发明专利]测距装置的测量值修正方法和测距装置在审
| 申请号： | 202011245158.7 | 申请日： | 2020-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN113406655A | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 稻叶诚二;伊藤克美 | 申请（专利权）人： | 日立乐金光科技株式会社 |
| 主分类号： | G01S17/10 | 分类号： | G01S17/10;G01S7/4865 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供测量值修正方法和测距装置，能减少作业者为修正测距装置的测量值进行的准备工作，并能自动生成修正式。在准备步骤中，预先在远离测距装置(1)的方向上在测量空间的地板表面(4)粘贴有由回归反射部件制成的反射带(5)的状态下，在沿反射带(5)扫描测量位置(Y)的同时，由测距装置(1)测量与反射带的内侧区域(51a)的距离(La)和与相邻于该区域的反射带的外侧区域(51b)的距离(Lb)。基于在各测量位置(Y)获得的距离(La)与距离(Lb)的关系，生成用于将距离(Lb)变换为距离(La)的修正式。在实测步骤中，用所述修正式修正由测距装置(1)测量出的其与对象物(3)的距离(实测值x)，计算测量距离的修正值(y)。 | ||
| 搜索关键词： | 测距 装置 测量 修正 方法 | ||
【主权项】：
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