[发明专利]一种真空灭弧室结构在审

专利信息
申请号: 202011231639.2 申请日: 2020-11-06
公开(公告)号: CN112164620A 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 毕冬丽;李春香 申请(专利权)人: 陕西宝光真空电器股份有限公司
主分类号: H01H33/662 分类号: H01H33/662;H01H33/664
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 721016 陕*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及电气设备,公开了一种真空灭弧室结构。真空灭弧室结构包括绝缘外壳、屏蔽筒、静导电杆以及动导电杆,屏蔽筒的两端分别连接于两个绝缘外壳,绝缘外壳与屏蔽筒之间形成真空腔,静导电杆和动导电杆穿设于真空腔并能够相互抵接,以在真空腔内形成电场,本发明还包括第一屏蔽环组件和第二屏蔽环组件,第一屏蔽环组件设置于真空腔内并连接于一个绝缘外壳内壁,静导电杆穿设于第一屏蔽环组件,第二屏蔽环组件设置于真空腔内并连接于另一个绝缘外壳内壁,动导电杆穿设于第二屏蔽环组件,第一屏蔽环组件和第二屏蔽环组件共同用于均衡真空腔内电场。
搜索关键词: 一种 真空 灭弧室 结构
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陕西宝光真空电器股份有限公司,未经陕西宝光真空电器股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011231639.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top