[发明专利]用于压印纳米结构的方法和装置在审

专利信息
申请号: 202011231477.2 申请日: 2014-04-22
公开(公告)号: CN112445065A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: G.克赖因德尔 申请(专利权)人: EV集团E·索尔纳有限责任公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 刘子豪;王玮
地址: 奥地利圣*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及用于将纳米结构(13)从纳米结构压模(5)压印到施加到基体(7)上的、能够硬化的材料(8)的压模面(14)中的方法,具有下列步骤、尤其下列过程:相对于所述压模面(14)对齐所述纳米结构(13),通过如下方式压印所述压模面(14):A)通过所述纳米结构压模(5)的变形来预紧所述纳米结构压模(5)和/或通过所述基体(7)的变形来预紧所述基体(7),B)所述压模面(14)的部分面(15)与所述纳米结构压模(5)接触,以及C)至少部分地、尤其主要地,通过预紧所述纳米结构压模(5)和/或预紧所述基体(7)自动接触所述其余面(16)。
搜索关键词: 用于 压印 纳米 结构 方法 装置
【主权项】:
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