[发明专利]投影机装置以及其控制方法、以及记录介质在审
| 申请号： | 202011229607.9 | 申请日： | 2020-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN112782923A | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 松本晃广;藤井宪晃;森田隆敏;山泽贤悟 | 申请（专利权）人： | 夏普福山半导体株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G03B21/14 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 叶乙梅 |
| 地址： | 日本国广岛*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供即便从投影机装置的投影部到投影面的距离增大，也能够抑制投影图像的亮度的降低，并且确保对于用户的安全性的投影机装置。投影机装置包括：投影部，将图像投影到被投影物体；测距部，测量从所述投影部的射出端到所述被投影物体的距离；以及控制部(24)，通过所述测距部测量的距离为既定距离以下的情况，在将投影光的亮度设定为一定的既定值，通过所述测距部测量的距离为比既定距离大的情况，以不超过与所述测量的距离对应的投影光的设定亮度的方式，使所述投影光的亮度增大。 | ||
| 搜索关键词： | 投影机 装置 及其 控制 方法 以及 记录 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普福山半导体株式会社，未经夏普福山半导体株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011229607.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
