[发明专利]一种大口径光学元件激光预处理和吸收型缺陷成像检测的联合装置有效

专利信息
申请号: 202011227322.1 申请日: 2020-11-06
公开(公告)号: CN112388156B 公开(公告)日: 2022-04-08
发明(设计)人: 李斌成;孙启明 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: B23K26/06 分类号: B23K26/06;B23K26/064;G01N21/88
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种大口径光学元件激光预处理和吸收型缺陷成像检测的联合装置,运用高能量重复率脉冲激光经能量调节和准直扩束形成大尺寸光斑对光学元件进行激光预处理照射,同时光学元件吸收型缺陷由于吸收照射激光束能量在样品内形成瞬态温度分布及折射率分布。经过一定延时后,由另一束低能量脉冲激光经准直扩束形成大尺寸探测光斑照射光学元件被预处理激光照射的相同区域,其一定传输距离后的透射或反射衍射光场分布由CCD记录。通过分析处理CCD记录的衍射光场图像特征确定光学元件被照射区域是否存在吸收型缺陷以及相应特征,通过扫描实现大口径光学元件全口径激光预处理和吸收型缺陷的高分辨成像检测。
搜索关键词: 一种 口径 光学 元件 激光 预处理 吸收 缺陷 成像 检测 联合 装置
【主权项】:
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