[发明专利]一种新的纳米压印制备反型微纳结构的方法在审

专利信息
申请号: 202011222584.9 申请日: 2020-11-05
公开(公告)号: CN112285997A 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 张威 申请(专利权)人: 张威
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 324014 浙江省衢*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供了一种新的纳米压印制备反型微纳结构的方法,包括纳米压印模板选择、反型材料选择、低表面能修饰剂选择,以及制备过程。自然界的生物结构是多种多样潜力无穷的,比如说壁虎脚底的吸附性,蝴蝶翅膀表面的周期性结构等等,都赋予了这些生物各自独有的特性。然而这些生物的结构是很复杂的,采用人工模拟生长的方式极难完成,我们发明的方法则提供了一种可能。通过进一步的发展完善,就有可能很好的复制出自然界这些生物的微纳结构从而使人类的材料同样具有这些生物的一些优良特性。这些特性可以广泛的应用于太阳能电池,油水分离,自清洁材料,光通信材料等高新科研领域。本发明是一种可以对自然界各种微纳结构的有效的复制方法。
搜索关键词: 一种 纳米 压印 制备 反型微纳 结构 方法
【主权项】:
暂无信息
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