[发明专利]一种基于深度残差Mask-CCNN的睡眠分期方法在审

专利信息
申请号: 202011191789.5 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN112294342A 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 宋立新;裴秀 申请(专利权)人: 哈尔滨理工大学
主分类号: A61B5/372 分类号: A61B5/372
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 岳泉清
地址: 150080 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种基于深度残差Mask‑CCNN的睡眠分期算法,涉及深度学习领域,包括如下步骤:步骤a.特征提取:将含有专家睡眠阶段标记的脑电信号(EEG)数据集输入到深度残差Mask‑CCNN进行时域和频域特征提取;步骤b.特征增强:采用深度残差块增强信息特征;步骤c.序列间特征提取:双向门控循环单元BiGRU构成的编、解码器提取脑电序列间的时序特征,使用注意力机制(Attention)加强每个睡眠阶段特征序列的最相关部分;步骤d.输出处理:通过softmax层输出睡眠分期。应用已经训练好的最优模型,输入EEG信号进行睡眠阶段分期。本发明可完成EEG信号的睡眠阶段自动分期,在获得较高分期准确度的同时有效避免特征选取的主观性。
搜索关键词: 一种 基于 深度 mask ccnn 睡眠 分期 方法
【主权项】:
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