[发明专利]一种用于蚀刻氧化镓铟锌薄膜的氢氟酸蚀刻液及其应用在审
| 申请号： | 202011190759.2 | 申请日： | 2020-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN112300803A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 王萱;孙中琳;刘尚;刘大铕 | 申请（专利权）人： | 山东华芯半导体有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08;H01L21/465 |
| 代理公司： | 济南泉城专利商标事务所 37218 | 代理人： | 李桂存 |
| 地址： | 250101 山东省济南市高新*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种用于蚀刻氧化镓铟锌薄膜的氢氟酸蚀刻液及其应用，氢氟酸的质量百分浓度为0.2~1%，蚀刻温度为室温20~30℃，本发明中的氢氟酸蚀刻液应用于以氧化镓铟锌为沟通层的晶体管或闪存单元的加工过程中，尤其是氧化镓铟锌薄膜作为沟通层沉积在Al |
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| 搜索关键词： | 一种 用于 蚀刻 氧化 镓铟锌 薄膜 氢氟酸 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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