[发明专利]一种可以提高环形件内表面电镀层均匀性的镀腔有效
申请号: | 202011188602.6 | 申请日: | 2020-10-30 |
公开(公告)号: | CN112301394B | 公开(公告)日: | 2022-05-24 |
发明(设计)人: | 吴向清;宋嘉蕾;谢发勤;李浪;周颖 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | C25D7/04 | 分类号: | C25D7/04;C25D17/02;C25D5/08;C25D5/02 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人: | 云燕春 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明一种可以提高环形件内表面电镀层均匀性的镀腔,属于电镀技术领域;包括镀腔盖板、作为阴极的待镀件、阳极棒和绝缘壁;绝缘壁为漏斗结构,其小径端作为入水口,大径端与待镀件同轴连接;镀腔盖板为圆形板状结构,其端面上沿周向均布出水口;待镀件为圆环结构,其两端口处分别与所述镀腔盖板、绝缘壁同轴密封连接,构成陀螺型镀腔;阳极棒为圆柱状结构,其顶端同轴固定于镀腔盖板的内端面,下端为半球体结构,位于绝缘壁的大径端内。本发明阳极加工难度和成本降低,使得镀液流动的流线不再散乱,速度分布更加均匀,流动效率更高,传质过程加快,减小浓差极化,制备出来的电镀层更加光亮,没有明显麻点、针孔等缺陷。 | ||
搜索关键词: | 一种 可以 提高 环形 表面 镀层 均匀 | ||
【主权项】:
暂无信息
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