[发明专利]一种可以提高环形件内表面电镀层均匀性的镀腔有效

专利信息
申请号: 202011188602.6 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN112301394B 公开(公告)日: 2022-05-24
发明(设计)人: 吴向清;宋嘉蕾;谢发勤;李浪;周颖 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: C25D7/04 分类号: C25D7/04;C25D17/02;C25D5/08;C25D5/02
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 云燕春
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明一种可以提高环形件内表面电镀层均匀性的镀腔,属于电镀技术领域;包括镀腔盖板、作为阴极的待镀件、阳极棒和绝缘壁;绝缘壁为漏斗结构,其小径端作为入水口,大径端与待镀件同轴连接;镀腔盖板为圆形板状结构,其端面上沿周向均布出水口;待镀件为圆环结构,其两端口处分别与所述镀腔盖板、绝缘壁同轴密封连接,构成陀螺型镀腔;阳极棒为圆柱状结构,其顶端同轴固定于镀腔盖板的内端面,下端为半球体结构,位于绝缘壁的大径端内。本发明阳极加工难度和成本降低,使得镀液流动的流线不再散乱,速度分布更加均匀,流动效率更高,传质过程加快,减小浓差极化,制备出来的电镀层更加光亮,没有明显麻点、针孔等缺陷。
搜索关键词: 一种 可以 提高 环形 表面 镀层 均匀
【主权项】:
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