[发明专利]高K值低残留单体聚合物粉末及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011185195.3 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN112225835A 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 孙旭东;张军伟;张森林;吕利红;张德栋;王军 申请(专利权)人: 博爱新开源医疗科技集团股份有限公司
主分类号: C08F6/00 分类号: C08F6/00;C08L39/06
代理公司: 焦作市科彤知识产权代理事务所(普通合伙) 41133 代理人: 杨明环
地址: 454450 河南省焦*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明属于聚合物粉末的制备技术领域,公开了一种高K值低残留单体聚合物粉末及其制备方法,包括单体聚合反应得到聚合物液体,聚合物液体经干燥、粉碎,得到聚合物粉末,将所述聚合物粉末在加热、负压、动态混合,或者加热、氮气吹扫、动态混合的条件下处理。本发明的制备方法制得的高K值聚合物粉末残留单体量低于10ppm,聚合物粉末的外观为淡黄色至乳白色粉末。
搜索关键词: 残留 单体 聚合物 粉末 及其 制备 方法
【主权项】:
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