[发明专利]一种闭合式双通道力回路的高负载压电纳米位移台有效

专利信息
申请号: 202011164691.0 申请日: 2020-10-27
公开(公告)号: CN112187094B 公开(公告)日: 2022-10-25
发明(设计)人: 夏志刚;张晶晶;郭文璟 申请(专利权)人: 中国计量大学
主分类号: H02N2/02 分类号: H02N2/02;H02N2/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310018 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种闭合式双通道力回路的高负载压电纳米位移台,包括两个或两个以上的内滑块、三个或三个以上的压电体、平台滑块、横向预紧元件、导轨,所述的平台滑块为封闭或半封闭的框架结构,内滑块沿导轨方向分布在平台滑块内部,并且在相邻的两个内滑块之间以及平台滑块前、后内壁与相邻的内滑块之间均设有压电体;平台滑台与任一内滑块之间以及任意两个内滑块间均有两条力回路,并且这两条力回路构成一闭合的环路;当内滑块或平台滑块受到这两个力回路推力的差大于它与导轨的最大静摩擦力时,它与导轨发生相对移动。本发明的优点是:兼具纳米分辨率、大行程、高负载、工作时安静无振动等特点,还具有超低温、超高真空、强磁场等极端环境兼容性。
搜索关键词: 一种 闭合 双通道 回路 负载 压电 纳米 位移
【主权项】:
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