[发明专利]一种真空镀膜装置在审

专利信息
申请号: 202011164127.9 申请日: 2020-10-27
公开(公告)号: CN112267102A 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 李县内 申请(专利权)人: 李县内
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50;C23C14/28
代理公司: 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 代理人: 王依
地址: 363000 福建省漳*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开一种真空镀膜装置,涉及真空镀膜技术领域,包括真空罐以及设在真空罐内腔顶部用于轰击金属的金属离子轰击仓,设在真空罐内部用于装夹工件的转动支架,真空罐内沿所述真空罐轴线方向阵列分布多个转动支架,转动支架可拆卸式安装在转轴跟随转轴转动,固定板与滑动支架可拆卸固定连接;转动支架端面径向阵列分布设置多个转动的转动支座,沿所述转动支架径向方向相邻转动支座之间设有可转动的第一驱动轮,第一驱动轮内外两侧径向相邻的第一驱动轮均与转动支座啮合连接;转动支架外圆周外侧设有内齿轮,内齿轮与设置在所述转动支架最外侧的转动支座啮合连接,本发明通过齿轮啮合传动驱动转动支座自转,使得工件镀膜均匀,提高了镀膜质量。
搜索关键词: 一种 真空镀膜 装置
【主权项】:
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