[发明专利]一种化合物APS5-CQD及其制备方法、化学发光底物液有效

专利信息
申请号: 202011162362.2 申请日: 2020-10-27
公开(公告)号: CN112342018B 公开(公告)日: 2022-08-19
发明(设计)人: 王铎;来祥兵;李重阳;舒芹;张雪娇 申请(专利权)人: 武汉生之源生物科技股份有限公司
主分类号: C09K11/65 分类号: C09K11/65;C09K11/06;C09K11/02;C07F9/64;B82Y30/00;B82Y20/00;G01N21/76
代理公司: 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 代理人: 江慧
地址: 430000 湖北省武汉市东湖开发区高*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种化合物APS5‑CQD及其制备方法、化学发光底物液,所述化合物APS5‑CQD的结构通式如下式I:式中,n=3~5,R基团为碳量子点。所述制备方法包括:获得如式II所示的化合物IV;将所述化合物IV与羧基荧光碳量子点在缩合剂作用下进行接枝反应,获得化合物APS5‑CQD;所述化学发光底物液的配方为:Tris 10~300mM,SDS 0.01~1.0%,APS5‑CQD 20~1000mg/L,Tween20 0.01%~0.1%,pH 8.5~10;本发明将APS‑5接枝到碳量子点上形成增强型化学发光底物APS5‑CQD,增强了底物的发光性能及长期稳定性、简化了配置过程。
搜索关键词: 一种 化合物 aps5 cqd 及其 制备 方法 化学 发光 底物液
【主权项】:
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