[发明专利]一种薄膜沉积设备有效
| 申请号： | 202011111104.1 | 申请日： | 2020-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN112226732B | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 廖斌 | 申请（专利权）人： | 廖斌 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/32;H10K50/80;H10K71/00 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 张梦泽 |
| 地址： | 519080 广东省珠*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种薄膜沉积设备，包括第一阳极筒、第二阳极筒、第一磁过滤弯管道、第二磁过滤弯管道、磁过渡腔体、进气管道、第三磁过滤弯管道和真空室，第一磁过滤弯管道将从第一阳极筒引出的第一金属颗粒吸附至内壁上，第二磁过滤弯管道将从第二阳极筒引出的第二金属颗粒吸附至内壁上，第一磁过滤弯管道和第二磁过滤弯管道过滤掉金属颗粒，通入反应气体后，第三磁过滤弯管道将从磁过渡腔体引出的反应气体中性粒子吸附至内壁上，过滤掉反应气体中性粒子，使进入真空室的等离子体中不掺杂金属颗粒和反应气体中性粒子，第一金属等离子体、第二金属等离子体和气体等离子体在工件表面沉积形成薄膜，进一步提高了膜层的致密性，进而提高了膜基结合强度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 沉积 设备 | ||
【主权项】：
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