[发明专利]一种高平坦度抛光片的制备工艺在审
| 申请号： | 202011111057.0 | 申请日： | 2020-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN114378645A | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 胡碧波 | 申请（专利权）人： | 万华化学集团电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B57/04;B24B57/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 264006 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种高平坦度抛光片的制备工艺，包括如下步骤：在洁净的待抛片背面均匀涂敷一层抛光蜡，将背面涂覆抛光蜡的待抛片贴敷在高温陶瓷盘上，随后进行冷却；对贴敷在陶瓷盘上的待抛片进行抛光处理，分别经历粗抛光，中抛光，精抛光三步，得到抛光片；对抛光片进行去蜡清洗，去除抛光片背面的抛光蜡，得到洁净的抛光片；利用测试设备对抛光片进行测试，确定所得抛光片的平坦度。本发明抛光的硅片平坦度参数可达到：GBIR＜1.5μm，SBIR＜0.5μm。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平坦 抛光 制备 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
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