[发明专利]基板处理装置在审
| 申请号： | 202011080302.6 | 申请日： | 2020-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN112725734A | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 张琼镐;卢熙成 | 申请（专利权）人： | TES股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人： | 李英艳;玉昌峰 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及基板处理装置，更详细地涉及当在腔室内部对多个基板执行蒸镀等工艺时能够不受相邻的基板的工艺影响的同时有效地执行工艺且具有便于腔室内部的维护等的构造的基板处理装置。基板处理装置具备：腔室，包括腔室主体以及对所述腔室主体的开口的上方进行密闭的腔室盖；多个凹部，彼此隔开预定距离形成于所述腔室盖；多个喷头，设置于所述腔室盖的凹部而朝向基板供应工艺气体；隔热部，延伸设置成围绕所述凹部的内侧壁；以及基板支承部，支承所述基板，并设置成能够上下移动以插入到所述凹部而在与所述喷头、所述隔热部之间形成处理空间。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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