[发明专利]控制装置、控制系统以及记录有程序的记录介质在审

专利信息
申请号: 202011078948.0 申请日: 2020-10-10
公开(公告)号: CN112676696A 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 西村竜太朗 申请(专利权)人: 发那科株式会社
主分类号: B23K26/00 分类号: B23K26/00;B23K26/70;B23K26/064;G05B19/404
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种控制装置、控制系统以及记录有程序的记录介质,对能够变更向工件照射的激光的照射角度的激光加工装置的动作进行控制。控制装置具备:加工信息获取部,获取通过对工件照射激光而得到的针对工件的加工结果作为加工信息;目标值获取部,获取加工结果的目标值;基准指令值计算部,基于获取到的目标值,来计算激光加工装置的动作指令的指令值作为基准指令值;校正量决定部,基于获取到的加工信息和获取到的目标值,来决定激光的校正量;校正指令值决定部,基于计算出的基准指令值和所决定的校正量,来决定对基准指令值进行校正所得到的校正指令值;以及执行控制部,使得基于所决定的校正指令值来执行激光加工装置的激光的照射。
搜索关键词: 控制 装置 控制系统 以及 记录 程序 介质
【主权项】:
暂无信息
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