[发明专利]一种PN结栅控氧化镓场效应晶体管及制备方法在审

专利信息
申请号: 202011070642.0 申请日: 2020-10-07
公开(公告)号: CN112164724A 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 周弘;雷维娜;周昕;张进成;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/808 分类号: H01L29/808;H01L21/337;H01L29/06;H01L29/24
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华;朱红星
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种PN结栅控氧化镓场效应晶体管及其制备方法,主要解决目前氧化镓材料有效p型掺杂及氧化镓基器件的双极结构缺失问题。其自下而上包括:绝缘衬底、n型β‑Ga2O3薄膜层,n型β‑Ga2O3薄膜层上的两端设有源电极和漏电极,中间区域设有栅电极,在栅电极分别与源电极和漏电极之间的n型β‑Ga2O3薄膜层之上,及源电极和漏电极的内表面设有Al2O3保护层,该n型β‑Ga2O3薄膜层与栅电极之间设有p型NiO薄膜层,其与n型β‑Ga2O3薄膜构成p‑n结。本发明减小了器件的导通电阻及栅泄漏电流,提高了器件的耐压能力,降低了器件的静态损耗,可用于制备常关型的高耐压氧化镓器件。
搜索关键词: 一种 pn 结栅控 氧化 场效应 晶体管 制备 方法
【主权项】:
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