[发明专利]基于皮层脑电图的多通道MEAs的制备方法在审
| 申请号： | 202011051491.4 | 申请日： | 2020-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN112244848A | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 王琮;魏宇琛;蒋程鹏 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | A61B5/291 | 分类号： | A61B5/291;A61B5/369 |
| 代理公司： | 哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司 23213 | 代理人： | 侯静 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 基于皮层脑电图的多通道MEAs的制备方法，本发明属于先进的微加工技术领域，它要解决柔性MEAs在高时空分辨率下操作，生产效率较低的问题。制备方法：一、对硅衬底进行等离子体清洗；二、在硅衬底表面沉积铝牺牲层；三、将非光敏聚酰亚胺MEAs基材多次旋涂在铝牺牲层上；四、光刻聚酰亚胺层图案化定型，电感耦合等离子体刻蚀处理；五、通过光刻工艺形成微电极网络和互连板；六、将非光敏聚酰亚胺MEAs基材旋涂在底层聚酰亚胺上，使用光致抗蚀剂掩蔽晶片，以限定互连线和焊盘；七、去除铝牺牲层。本发明中以6英寸高阻硅片为基片，结合柔性聚酰亚胺可以在单片上大批量生产25个MEAs。记录位置以高时空分辨率紧凑排列。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 皮层 脑电图 通道 meas 制备 方法 | ||
【主权项】：
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