[发明专利]包含涂敷于纳米粒子载体表面的T1造影物质的磁共振成像造影剂在审
| 申请号： | 202011048294.7 | 申请日： | 2014-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN112089851A | 公开（公告）日： | 2020-12-18 |
| 发明（设计）人： | 千珍宇;申泰铉 | 申请（专利权）人： | 茵温特拉制药公司 |
| 主分类号： | A61K49/08 | 分类号： | A61K49/08;A61K49/12;A61K49/14;A61K49/18 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 郑天松 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及包含涂敷于纳米粒子载体表面的T1造影物质的磁共振成像(MRI，Magnetic Resonance Imaging)T1造影剂组合物。本发明的磁共振成像T1造影剂组合物以规定厚度以下将顺磁性T1造影剂物质改性于具有规定的直径的纳米粒子载体，来使T1造影剂物质的表面积‑体积比(surface‑to‑volume ratio)大大增加，从而具有优秀的T1磁自旋弛豫效果。本发明提供更准确且鲜明的T1阳性造影(positive contrast)影像，从而可有用地利用于可靠度高的影像诊断。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 纳米 粒子 载体 表面 t1 造影 物质 磁共振 成像 | ||
【主权项】：
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