[发明专利]硅片碱抛后清洗用添加剂及其应用有效
| 申请号： | 202011047197.6 | 申请日： | 2020-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN112143573B | 公开（公告）日： | 2021-07-06 |
| 发明（设计）人： | 于胤;陈盼盼;杨勇;章圆圆 | 申请（专利权）人： | 常州时创能源股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/72 | 分类号： | C11D1/72;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/60;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅片碱抛后清洗用添加剂，由1～3质量份柠檬酸、0.3～0.5质量份月桂醇聚氧乙烯醚、1～2质量份乙二醇、1～2质量份硫酸钠、2～3质量份氯化钠和85～97质量份水组成。本发明的添加剂可以直接应用于现有清洗设备上，对碱抛后的硅片进行清洗时，在清洗液中加入本发明的添加剂，可改善硅片清洗效果，对多种痕量级杂质有强力的去除作用，且不会形成新的沾污，可通过改善硅片表面的清洁度来提升电池效率。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 碱抛后 清洗 添加剂 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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