[发明专利]半色调相移型光掩模坯料、其制造方法以及半色调相移型光掩模

摘要

本发明涉及半色调相移型光掩模坯料、其制造方法以及半色调相移型光掩模。本发明提供了一种半色调相移型光掩模坯料，该半色调相移型光掩模坯料包括透明衬底和形成在该衬底上的半色调相移膜，并包括至少一个由硅、氮和氧构成的层。该半色调相移膜相对于波长至多200nm的曝光光具有至少150°且至多200°的相移和至少20％的透射率，并且具有表面粗糙度RMS至多为0.8nm的膜表面，以及根据以下表达式由掩模图案形成区域内的最大透射率Tmax和最小透射率Tmin计算的面内透射率变化为至多2％：(Tmax‑Tmin)/(Tmax+Tmin)×100。