[发明专利]一种（右）佐匹克隆光降解杂质的制备方法在审
| 申请号： | 202010973436.4 | 申请日： | 2020-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN112094275A | 公开（公告）日： | 2020-12-18 |
| 发明（设计）人： | 刘彦彬;吴艳华;刘晓;寇磊;王大磊;张斌 | 申请（专利权）人： | 迪嘉药业集团有限公司;迪沙药业集团有限公司 |
| 主分类号： | C07D487/04 | 分类号： | C07D487/04 |
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| 地址： | 264205 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种（右）佐匹克隆光降解杂质的制备方法，属于化学合成技术领域。本发明所述6‑（5‑氯吡啶‑2‑基）‑6,7‑二氢‑5H‑吡咯并[3,4‑b]吡嗪‑5‑酮（化合物Ⅰ）的制备方法，为化合物Ⅱ或化合物Ⅲ与二异丁基氢化铝在一定的条件下反应制备。本发明提供了一种工艺合理、条件温和、操作简便且的6‑（5‑氯吡啶‑2‑基）‑6,7‑二氢‑5H‑吡咯并[3,4‑b]吡嗪‑5‑酮（化合物Ⅰ）的合成方法，该方法操作简单，具有一定的商业价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 克隆 光降解 杂质 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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