[发明专利]显示基底在审

专利信息
申请号: 202010967458.X 申请日: 2020-09-15
公开(公告)号: CN112558368A 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: 沈承辅;尹洪敏;姜多顺 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/133;G02F1/1337;G02F1/1339;H01L27/12
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 张晓;尹淑梅
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种显示基底,所述显示基底包括基体基底和设置在基体基底的表面上的多个绝缘层。凹槽在显示基底的非显示区域中限定在绝缘层中。取向层的端部设置在凹槽中。凹槽能够控制液体取向材料的流动以防止液体取向材料溢出到基体基底的边缘。凹槽在于显示基底的显示区域中形成接触孔的工艺中同时形成。因此,在不增加掩模的数量的情况下,形成与取向层的端部对应以控制液体取向材料的流动的结构。
搜索关键词: 显示 基底
【主权项】:
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