[发明专利]曝光装置、平面显示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法有效
| 申请号： | 202010960580.4 | 申请日： | 2016-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN112162465B | 公开（公告）日： | 2023-06-20 |
| 发明（设计）人： | 内藤一夫;青木保夫;长岛雅幸 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明是曝光装置、平面显示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法。透过投影光学系(40)对基板(P)照射照明光(IL)，并借由相对基板(P)驱动投影光学系(40)进行扫描曝光的液晶曝光装置(10)，具备检测设于基板(P)的标记(Mk)的对准系(60)、驱动对准系(60)的第1驱动系、驱动投影光学系(40)的第2驱动系、以及以投影光学系(40)与对准系(60)彼此不接触的方式控制第1及第2驱动系的控制装置。如此，能避免投影光学系(40)与对准系(60)的接触。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 平面 显示器 制造 方法 元件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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