[发明专利]套刻误差动态抽样测量方法及装置在审

专利信息
申请号: 202010948703.2 申请日: 2020-09-10
公开(公告)号: CN114167687A 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 梁时元;丁明正;贺晓彬;白国斌;刘强 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00;H01L21/66
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 付婧
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供一种套刻误差动态抽样测量方法及装置,所述方法包括:获取晶圆上所有套刻标识的信息,所述所有套刻标识由所述晶圆上每个曝光单元中的套刻标识组成;将所述晶圆上所有套刻标识分成至少两大组;按照预先确定的选择顺序,依次选择每个相应大组的套刻标识测量所述晶圆的套刻误差;所述选择顺序用于指示所述至少两大组套刻标识的循环选择顺序。本公开通过多个套刻误差测量方案循环测量套刻误差,能够在不影响生产效率的情况下,更加准确地测量套刻误差。
搜索关键词: 误差 动态 抽样 测量方法 装置
【主权项】:
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