[发明专利]一种低面形光学薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 202010948623.7 | 申请日： | 2020-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN112095083A | 公开（公告）日： | 2020-12-18 |
| 发明（设计）人： | 白金林;刘华松;姜玉刚;王利栓;李子杨 | 申请（专利权）人： | 天津津航技术物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/54 |
| 代理公司： | 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 | 代理人： | 刘二格 |
| 地址： | 300308 天津*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于光学薄膜技术领域，公开了一种低面形光学薄膜的制备方法，通过预先计算光学薄膜元件镀膜后面形变化情况，预测同种工艺下镀膜后薄膜元件面形变化；然后对光学薄膜待镀元件基底预加工出与变形方向相反的面形，来补偿镀膜后膜层应力造成的光学薄膜元件面形变化，可实现低面形光学薄膜的制备。结果表明，本发明方法具有单面镀膜面形可控，工艺可操作性强和成品率高等优点，对光学薄膜元件的面形精度提升具有重要的作用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低面形 光学薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津津航技术物理研究所，未经天津津航技术物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010948623.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
