[发明专利]一种提高全场扫频光学相干层析测量量程的系统及方法有效

专利信息
申请号: 202010940965.4 申请日: 2020-09-09
公开(公告)号: CN111829954B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 洪泽钦;白玉磊;董博;何昭水;谢胜利 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/41;G01N21/45
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 胡素莉
地址: 510060 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种提高全场扫频光学相干层析测量量程的系统,包括:激光扫频光源,用于发出入射光;凸透镜,用于将所述入射光调整成平行光;分光棱镜,用于将所述入射光分成若干光束;载玻片,所述载玻片用作被测件;削光片,所述削光片用于减弱所述载玻片的反射光;光楔,所述光楔作为参考面;信号采集器,用于采集干涉光谱。通过降低采样图像的帧数实现欠采样,并且本发明应用是在SS‑OCT系统上,基于希尔伯特变换的相位求解算法,能够有效解决欠采样下导致的相位混乱问题,完成准确测量,进而提高扫频光学相干层析测量系统的最大测量量程。
搜索关键词: 一种 提高 全场 光学 相干 层析 测量 量程 系统 方法
【主权项】:
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