[发明专利]大规模集成电路版图非结构网格偏心中点生成方法和系统有效
| 申请号： | 202010912374.6 | 申请日： | 2020-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN112052641B | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 唐章宏;邹军;黄承清;汲亚飞;王芬 | 申请（专利权）人： | 北京智芯仿真科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 李兴林 |
| 地址： | 100089 北京市海淀区信*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种大规模集成电路版图非结构网格偏心中点生成方法和系统。该大规模集成电路版图非结构网格偏心中点生成方法和系统，通过采用偏心中点恢复法对丢失边进行恢复，采用偏心中点消除法消除被侵蚀的边。在丢失边的恢复过程中嵌套有被侵蚀边的消除，在被侵蚀边的消除过程中嵌套有丢失边的恢复，以保证消除所有丢失的边和被侵蚀的边。并且，针对丢失的边和被侵蚀的边生成的偏心中点形成的夹角正好为预先设定的定义三角形质量的三角形的最小角阈值，以使得在保证生成的网格质量满足要求的同时，减少网格节点，以能够在提高数值计算的速度的同时，减小计算内存。 | ||
| 搜索关键词： | 大规模集成电路 版图 结构 网格 偏心 中点 生成 方法 系统 | ||
【主权项】：
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