[发明专利]一种实现高通量并行激光扫描直写光刻的方法和装置在审
| 申请号： | 202010903709.8 | 申请日： | 2020-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN112051714A | 公开（公告）日： | 2020-12-08 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;周国尊;谢舜宇;刘旭;李海峰 | 申请（专利权）人： | 浙江大学;杭州柏纳光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 刘静 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种实现高通量并行激光扫描直写光刻的方法，包括步骤：1)生成由多束子光束组成的高通量并行刻写光束；2)独立控制高通量并行刻写光束中各子光束的通断；3)将高通量并行刻写光束聚焦在光刻样品上；4)高通量并行刻写光束水平扫描配合光刻样品垂直移动实现小区域直写光刻；5)光刻样品大范围三维移动实现三维直写光刻。本发明还提供一种实现高通量并行激光扫描直写光刻的装置。本发明相较于现有技术，具有直写光刻加工效率高、加工速度快和加工样品尺度大的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 实现 通量 并行 激光 扫描 光刻 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学;杭州柏纳光电有限公司，未经浙江大学;杭州柏纳光电有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010903709.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
