[发明专利]用于梯度线圈的匀场组件及磁共振成像装置在审
| 申请号： | 202010902314.6 | 申请日： | 2020-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN114114114A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 薛廷强;彭卫平 | 申请（专利权）人： | 西门子（深圳）磁共振有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/385 | 分类号： | G01R33/385;G01R33/48 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518057 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种用于梯度线圈的匀场组件及磁共振成像装置，所述梯度线圈(80)形成有一个沿其Z轴方向(Z)延伸的匀场孔(81)，所述的匀场组件包括一个拼接组件(40)；所述拼接组件(40)由数个拼接件通过拼接配合形成；所述数个拼接件中至少一个为匀场块(10)；其中，所述匀场块(10)具有用于形成拼接配合的插块(11)和/或插槽(13)；所述匀场块(10)包含非磁性且电绝缘的塑料和分散地存在于所述塑料中的软磁材料粉末和/或永磁材料粉末，所述匀场块(10)通过所述插块(11)和/或所述插槽(13)形成拼接配合；所述拼接组件(40)用于以其长度方向(L)平行于所述梯度线圈(80)的Z轴方向(Z)的角度插设于所述匀场孔(81)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 梯度 线圈 组件 磁共振 成像 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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