[发明专利]一种用于控制椭球形光学元件膜厚分布的挡板设计方法在审

专利信息
申请号: 202010862513.9 申请日: 2020-08-25
公开(公告)号: CN111826629A 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 郭春;孔明东 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54;C23C14/24;C23C14/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种用于控制椭球形光学元件膜厚分布的挡板设计方法,真空镀膜过程中,膜料以蒸发或溅射方式在真空环境中传输,并在椭球形光学元件表面上形成厚度非均匀分布的薄膜。分别建立了能真实反映未使用挡板和使用挡板修正时真空镀膜过程中沉积到椭球形光学元件上的薄膜厚度分布模型。根据未使用挡板时的薄膜厚度分布模型确定真空镀膜过程中薄膜材料的蒸发或溅射特性,在此基础上运用存在挡板修正时的薄膜厚度分布模型理论模拟真空镀膜过程中沉积到椭球形光学元件上的薄膜厚度分布。通过计算机优化挡板设计直至挡板修正后椭球形光学元件上薄膜厚度分布达到设计需求,获得最优的挡板设计,能实现椭球形光学元件上薄膜厚度分布的精确控制。
搜索关键词: 一种 用于 控制 椭球 光学 元件 分布 挡板 设计 方法
【主权项】:
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