[发明专利]等离子体探测装置、等离子体处理装置和控制方法有效
| 申请号： | 202010861394.5 | 申请日： | 2020-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN112449473B | 公开（公告）日： | 2023-08-25 |
| 发明（设计）人： | 池田太郎;佐藤干夫;镰田英纪 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/00 | 分类号： | H05H1/00 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;徐飞跃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种等离子体探测装置、等离子体处理装置和控制方法。本发明的一方式的等离子体探测装置包括：天线部，其隔着将真空空间与大气空间之间密封的密封部件，安装在形成于处理容器的壁的开口部；和透光部，其设置于所述天线部的内部或者是所述天线部的至少一部分，能够使所述真空空间中生成的等离子体的发出光透射到所述大气空间。根据本发明，能够高精度地监视等离子体生成空间中的自由基密度。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 探测 装置 处理 控制 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010861394.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
