[发明专利]提高OPC修正效率的方法有效
| 申请号： | 202010832140.0 | 申请日： | 2020-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN111948915B | 公开（公告）日： | 2022-12-02 |
| 发明（设计）人： | 吴青;孟鸿林;朱骏;魏芳 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种提高OPC修正效率的方法，包括：对版图上的器件分别进行本地OPC处理和全局OPC处理；所述本地OPC处理包括：在版图中以器件的功能不同和/或器件的尺寸差异定义器件的属性；将每个属性的所述器件以光学半径进行分类；对分类后的所述器件进行OPC修正处理；用OPC修正处理后的器件替换版图上同一类的所有器件，并将替换后的地方进行标示；所述全局OPC处理包括：对所述版图上的未标示的地方进行OPC修正处理。相比于现有技术的每一个器件都进行全局OPC处理，本发明对重复类型的器件只进行一次本地OPC处理，节省了大量OPC处理的时间。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 opc 修正 效率 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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