[发明专利]提高OPC修正效率的方法

说明书

本发明提供了一种提高OPC修正效率的方法，包括：对版图上的器件分别进行本地OPC处理和全局OPC处理；所述本地OPC处理包括：在版图中以器件的功能不同和/或器件的尺寸差异定义器件的属性；将每个属性的所述器件以光学半径进行分类；对分类后的所述器件进行OPC修正处理；用OPC修正处理后的器件替换版图上同一类的所有器件，并将替换后的地方进行标示；所述全局OPC处理包括：对所述版图上的未标示的地方进行OPC修正处理。相比于现有技术的每一个器件都进行全局OPC处理，本发明对重复类型的器件只进行一次本地OPC处理，节省了大量OPC处理的时间。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，尤其是涉及一种提高OPC修正效率的方法。

背景技术

在先进的光刻工艺中，因曝光图形尺寸的缩小，简单的全局光学临近修正(OPC)也逐渐遇到各种问题，其中一个问题就是OPC的处理时间问题。从早期110nm的数十分钟处理时间，到最新的技术节点可能到达几天的处理时间。OPC处理的软件厂商也在优化不同的算法，以达到优化OPC运行时间的最佳效果，但当随着技术节点的减少，芯片尺寸的增加，运行时间还是不断的增加，运行时间也变成一个制约OPC开发的众多瓶颈之一。

然而，运行时间的增加，必定影响客户芯片出版的时间。简单来说，预计2天的OPC处理时间，如果时间延长，可能需要3天甚至4天的时间。为了减少处理时间，必然使用更多的计算资源来辅助计算，则资源损耗也会相应的增加，这也不符合绿色环保的宗旨。怎样缩短OPC运行时间，减少资源使用，是本专利的研究方向。

发明内容

本发明的目的在于提供一种提高OPC修正效率的方法，可以减少OPC运行时间，提高资源的利用。

为了达到上述目的，本发明提供了一种提高OPC修正效率的方法，包括：对版图上的器件分别进行本地OPC处理和全局OPC处理；

所述本地OPC处理包括：

在版图中以器件的功能不同和/或器件的尺寸差异定义器件的属性；

将每个属性的所述器件以光学半径进行分类；

对分类后的所述器件进行OPC修正处理；

用OPC修正处理后的器件替换版图上同一类的所有器件，并将替换后的地方进行标示；

所述全局OPC处理包括：

对所述版图上的未标示的地方进行OPC修正处理。

可选的，在所述的提高OPC修正效率的方法中，一个属性的所述器件是一个功能器件或多个功能器件的组合。

可选的，在所述的提高OPC修正效率的方法中，定义的器件的属性至少为两个。

可选的，在所述的提高OPC修正效率的方法中，定义的器件的属性为三个属性，三个属性的所述器件分别是：第一器件、第二器件和第三器件。

可选的，在所述的提高OPC修正效率的方法中，一个属性的所述器件至少分为两类。

可选的，在所述的提高OPC修正效率的方法中，所述第一器件至少分为两类；所述第二器件至少分为两类；所述第三器件至少分为两类。

可选的，在所述的提高OPC修正效率的方法中，对每类所述器件进行OPC修正处理的方法包括：每类所述器件分别进行一次OPC处理或者至少两类的所述器件同时多线程地进行OPC处理。

可选的，在所述的提高OPC修正效率的方法中，同一类所述器件进行一次OPC处理。

可选的，在所述的提高OPC修正效率的方法中，对版图上的器件分别进行本地OPC处理和全局OPC处理之后，所述提高OPC修正效率的方法还包括：检查本地OPC处理和全局OPC修正处理的结果，对本地OPC处理和全局OPC修正处理没有修正到位的器件进行手动修正。